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    1. CVD Chemical Vapor Deposition CVD真空氣相鍍膜
      真空氣相沉積材料

             CVD真空氣相沉積工藝所使用的是一種保護性長鏈性高分子材料(中文名:派瑞林、聚對二甲苯、英文名:Parylene),它可在真空下氣相沉積,活性分子的良好穿透力能在元件內部、底部,周圍形成無針孔,並厚度均勻的透明絕緣塗層,給元件提供了一個完整的優質防護塗層,抵禦酸堿、鹽霧、黴菌及各種腐蝕性氣件的侵害,因為所使用的不是液體,所以塗敷過程中不會聚集,橋接式形成彎月面。

            Parylene派瑞林高分子材料根據分子結構可分為: N、C、 D、F、HT等多種 類型。我們可根據客戶技術要求與產品提供CVD真空氣相沉積工藝所需的派瑞林粉體與原料,並給於專業的技術指導。

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      派瑞林牌號

      成膜特性

      CAT

      N

      CAT

      C

      CAT

      D

      CAT

      F(VT4)

      CAT

      AF4(HT)

      密度(gm/cc)

      1.1

      1.3

      1.41

      1.55

      1.5

      介電常數(1Mhz)

      2.6

      2.9

      2.8

      2.3

      2.2

      介電強度(V/Mil)

      7000

      5600

      5500

      5000

      7000

      最低持續工作溫度(空氣中)

      -60°C

      -60°C

      -60°C

      -60°C

      -60°C

      最高持續工作溫度(空氣中)

      60°C

      80°C

      110°C

      200°C

      300°C

      摩擦係數-動態

      0.25

      0.29

      0.38

      0.39

      0.16

      線性膨脹係數(ppm at 25°C)

      69

      35

      38

      45

      34

      吸水性(24H後)

      <% 0.1

      <% 0.1

      <% 0.1

      <% 0.1

      <% 0.1

      水蒸氣透過率(gm.mm)/m2.day)

      0.6

      0.08-0.1

      0.1

      0.25-0.32

      0.2

      氧氣穿透率(cc.mm)/(m2.day.atm)

      16

      3

      12.0-13.5

      16.8

      25.3

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